納米壓印母版制作

    NILT 提供具有多種結構、多種形狀因數和材料的母版和副母版。我們的重點是衍射光學元件、超透鏡和增強/混合現實的大師。我們還具有為其他應用程序創建母版的能力。
    母版采用電子束光刻 (EBL)、深紫外光刻 (DUV) 和直接激光寫入，結合先進的干法蝕刻和沉積工藝制成。
    所有母版均按客戶規格制作。發貨前，所有規格均經過計量確認，如掃描電子顯微鏡、原子力顯微鏡和光學顯微鏡，并報告給客戶。