Alpha300R共聚焦拉曼顯微鏡
型號: Alpha300 R
產地:德國
關鍵詞:拉曼光譜、共焦、顯微鏡
n產品簡介:
德國Witec公司是世界上相當高端的共聚焦拉曼顯微鏡制造商,生產的Alpha300 R型共聚焦顯微拉曼顯微鏡因其優異的“共聚焦”性能,儀器的成像分辨率,穩定性及成像速度遠遠優于世界其他競爭對手,并且該儀器可實現低波數,掃描光電流,高階諧波,低溫磁場mapping等多種高端應用,也可與AFM,掃描電鏡聯用實現真正意義上的原位拉曼mapping,并可升級到近場光學顯微鏡。該儀器是二維材料,材料科學,生命科學,腐蝕學,巖石學,半導體,高分子,化學等領域的理想的工具之一。客戶遍及世界各國名校,知名研究所與企業。
n產品主要特性:
- 超高的光譜空間分辨率(空氣中):橫向300nm,縱向800nm
- 超快的掃描速度:單譜采集時間760μs,40000個光譜只需42s!!!

- 超高的穩定性:區別于傳統的振鏡耦合光路,WITEC采用光纖耦合的方式,即使在惡劣的環境下也可保持穩定的“共聚焦”,儀器穩定性極好,適合工業客戶應用;
- 極高的靈敏度:由于采用光纖耦合的方式,沒有自由光路中的反射鏡吸收,所以拉曼光譜損壞較小,眾所周知,拉曼信號屬于弱型號,靈敏度對檢測及其重要;
- 真正意義上的“共聚焦”:共聚焦好帶來最大優勢是可避免雜散光對拉曼信號的干擾,如生物樣品,WITEC的儀器可有效避免熒光信號擾動,即使使用532nm激光器也可得到高分辨的拉曼mapping!!


n主要技術參數:
- 采集速度:單個空間點的拉曼采譜時間降到ms級別。
- 光學分辨率高(空氣):300nm(橫向),800nm(垂直方向)
- 光譜分辨率高:0.02cm-1
- 激光器:355nm,442nm, 488nm,514nm,532nm,633nm,785nm 等可選,功率10-150mW(根據不同激光器)
- 光譜儀:300mm焦距,f/4;通光量 70%;300g/mm,600g/mm和1800g/mm光柵可選
- PZT掃描臺,掃描范圍200x200x2um;掃描準確度4x4x0.5nm; 線性度好于0.02%
- 標準測試模式:拉曼光譜,光譜vs時間,拉曼光譜影像XY, YZ; 3D成像
n拓展功能:
- 可實現與原子力顯微鏡AFM,掃描電鏡,近場光學顯微鏡聯用實現真正意義原位測量;
- 非線性光學應用:二次諧波SHG,三次諧波THG,雙光子熒光TPPL
- TCSPC(FLIM)熒光壽命成像
- 掃描光電流
- 低溫磁場拉曼mapping
- 三維形貌成像
- 微區反射吸收
- 全偏振拉曼光譜及成像
- 原位電化學拉曼光譜及成像
n產品應用:
該儀器廣泛用于材料科學、 薄膜與聚合物研究、生命科學、半導體研究、 晶體研究、制藥科學,化學,地質學,物理學。



產品中心
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三維表面形貌儀
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Mountains分析軟件
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微納米力學測試系統
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摩擦磨損試驗機
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SIC晶錠滾磨機/晶圓減薄機
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CMP化學機械拋光/后清洗機
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晶圓粘片機
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臨時鍵合機/解鍵合機
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晶圓厚度/三維形貌/膜厚測量系統
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表面顆粒度檢測系統
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原子力顯微鏡
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拉曼顯微鏡
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紅外光譜儀
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4D生物顯微鏡
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晶圓AOI系統
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晶圓電阻率/方塊電阻測量儀
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納米壓印系統
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光柵尺寸無損檢測儀
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磁控濺射/熱蒸發/電子束鍍膜系統
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LPCVD/PECVD
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干法刻蝕
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等離子灰化去膠系統
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晶圓勻膠機/噴膠機
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晶圓烤膠系統(熱板)
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濕法(顯影刻蝕清洗)系統
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晶圓貼片機/貼膜/解膠機
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棱鏡耦合儀
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快速退火爐/真空高溫爐
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光刻膠邊緣分析
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劃片機
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平面磨床/金屬研磨機
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接觸角測量儀