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LabSCIL研究級納米壓印光刻機

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品牌:SCIL

型號:LabSCIL

產地:荷蘭

關鍵字:納米壓印,納米壓印系統,納米壓印光刻機

n 荷蘭SCIL公司

 

  荷蘭SCIL公司是全球知名的納米壓印設備供應商,是荷蘭飛利浦公司投資的高科技公司之一,并與SUSSFraunhoferAMOAMOLF合作,開發了專利的“SCIL基底保形壓印技術,真正意義上實現了納米壓印技術的工業wafer級量產,已經被國際上很多知名fab廠采用。

       “SCIL基底保形壓印光刻是一種經濟高效、穩健、高產量的工藝,可在多種材料上實現納米分辨率圖案。SCIL實現在達 300 毫米的晶圓區域上提供經過驗證的高質量壓印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 套刻對齊精度小于 1 µm 的圖案。

  荷蘭SCIL公司同時開發了專利的無機玻璃納米壓印光刻膠,可直接作為功能層使用,可直接省去2個工藝步驟,大大降低了生產成本。

       SCIL 目前可提供2” 12”晶圓手動研發工具到全自動系統的全方位解決方案,并可以幫助客戶優化設備、耗材和流程,以實現大批量生產。

n SCIL 技術特色

  - 即使在非平坦和彎曲的表面上也可以保證保形接觸印刷專利的模板復制技術

  - 獨特的 SCIL 壓印工藝可確保10 nm 分辨率、低圖案變形和無顆粒損壞印模。

  - 套刻對齊精度:< 1 µm

  - Sol-gel的優異蝕刻特性可得到極蝕刻率。

  - Sol-gel的的熱穩定性、光學透明度和(UV)穩定性使其適合作為功能層。

  - 使用熱Sol-gel大大增加了母版壽命。

  - 總體而言,SCIL將最高的壓印質量和產量與高吞吐量和低總體擁有成本相結合。

 

n LabSCIL型科研級納米壓印系統簡介

 

        LabSCIL專為有興趣開發 SCIL 流程和應用程序的大學、研究所和公司的研發實驗室開發對于對可用于小批量試生產的工具感興趣的公司,LabSCIL將是理想的選擇。

 

n 技術參數

 

操作

手動放片,納米壓印是全自動的

晶圓尺寸

最大8”向下兼容

晶圓厚度

0.3 - 2.5 mm

晶圓搬運

托盤手動加載

光刻膠類型

Thermal sol-gel

UV sol-gel

UV organic

壓印技術

低力軟模基底保形納米壓印

尺寸(WxLxH)

1.8 x 1.4 x 2.2 m

套刻精度

 < 1μm

 

n 應用

  納米圖案化是眾多納米光子應用的關鍵工藝步驟。下面提到的應用程序只是一個選擇。其他應用包括:

  - 增強現實和虛擬現實 (AR/VR) 光學

      - MicroLED

  - MEMS和3D傳感

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創建時間:2022-01-17 11:50

產品中心

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