MPS2 R300 CV 6寸晶圓研磨機
型號:MPS R300CV
產地:德國
關鍵字:晶圓研磨機、晶圓減薄機、研磨機、減薄機
n產品簡介
德國G&N公司前身為1940年成立的德國Kugelmüller有限公司,并于1964年開發了世界第一臺半導體晶圓研磨機。MPS2 R300 CV型晶圓研磨機是德國G&N公司開發的一款6寸晶圓研磨/減薄系統,采用了G&N公司最先進的研磨技術,主要用于對半導體晶圓進行減薄與精密研磨,該系統采用一個主軸,可安裝粗磨砂輪和精磨砂輪,系統穩定性好,研磨精度高,適合科研客戶及小批量生產客戶。
n技術特色


- 立式進給研磨加工方式,通過金剛石砂輪對晶圓進行高速減薄加工
- 兼容2,3,4,5,6寸晶圓減薄與研磨
- 一個主軸可安裝粗磨砂輪與精磨砂輪
- 粗磨和精磨自動轉換
- 砂輪進給采用高精度伺服電機進行控制,磨削精度高
- 系統采用高精度平衡系統,可補償在減薄過程中抖動,加工穩定性好,重復加工精度高
- 全封閉研磨區
- 砂輪為金剛石或者CBN
- 多種不同粒度和材料的砂輪用于研磨不同的材料
- 高精度PLC控制器
- 最低限度的TTV
- 可設置多個recipe程序自動運行
- 多種尺寸的真空夾具
- 可配置膜厚測量模塊
-對話式人機PC操作界面,觸摸屏幕,操作簡便,可儲存多個recipes
n主要參數
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研磨尺寸 |
兼容2” 3” 4” 5” 6” |
樣品臺平面起伏誤差 |
≤3μm |
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研磨方式 |
Z向切入方式,晶片與主軸同步旋轉 |
金剛石/CBN砂輪直徑 |
200mm |
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主軸數量 |
1個 |
單次可研磨wafer數量 |
18 x 2’’; 8 x 3’’; 5 x 4’’ ; 3 x 5’’; 2 x 6’’ |
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主軸類型 |
內置高精度電機 空氣靜壓主軸 |
粗、精進給范圍 |
180mm/12mm |
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砂輪類型 |
單一砂輪/雙砂輪可選 |
進給精度 |
≤1μm |
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砂輪切換方式 |
手動更換/自動可選 |
最小步長 |
0.1μm |
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粗磨速度 |
2-1000μm/min |
加工后的表面粗糙度Ra |
取決于砂輪, 使用D7,Ra為0.016μm |
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精磨速度 |
2-1000μm/min |
加工后單片厚度偏差TTV |
≤3μm |
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主軸功率 |
2.2 KW |
晶片與晶片之間的厚度偏差 |
≤2μm |
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主軸轉速 |
500-3000min-1 |
重量 |
780kg |
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樣品臺直徑 |
300mm |
占地面積 |
1400 x 1000x 1850 mm |
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樣品臺轉速 |
2-30rpm |
控制器 |
PLC控制系統 |
n產品應用:
可研磨多種半導體材料,如AlN; Al2O3; GaAs; K2O,GaN; Ge; InP; Si; SiC; Si2N4等
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產品中心
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三維表面形貌儀
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Mountains分析軟件
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微納米力學測試系統
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摩擦磨損試驗機
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SIC晶錠滾磨機/晶圓減薄機
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CMP化學機械拋光/后清洗機
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晶圓粘片機
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臨時鍵合機/解鍵合機
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晶圓厚度/三維形貌/膜厚測量系統
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表面顆粒度檢測系統
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原子力顯微鏡
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拉曼顯微鏡
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紅外光譜儀
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4D生物顯微鏡
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晶圓AOI系統
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晶圓電阻率/方塊電阻測量儀
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納米壓印系統
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光柵尺寸無損檢測儀
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磁控濺射/熱蒸發/電子束鍍膜系統
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LPCVD/PECVD
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干法刻蝕
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等離子灰化去膠系統
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晶圓勻膠機/噴膠機
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晶圓烤膠系統(熱板)
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濕法(顯影刻蝕清洗)系統
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晶圓貼片機/貼膜/解膠機
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棱鏡耦合儀
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快速退火爐/真空高溫爐
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光刻膠邊緣分析
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劃片機
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平面磨床/金屬研磨機
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接觸角測量儀