FabSCIL2 納米壓印光刻機(jī)

n 荷蘭SCIL公司簡介

  荷蘭SCIL公司是全球知名的納米壓印設(shè)備供應(yīng)商，是荷蘭飛利浦公司投資的高科技公司之一，并與SUSS，Fraunhofer，AMO，AMOLF合作，共同開發(fā)了專利的“SCIL基底保形壓印”技術(shù)，真正意義上實(shí)現(xiàn)了納米壓印技術(shù)的工業(yè)wafer級(jí)量產(chǎn)，已經(jīng)被國際上很多知名fab廠采用。

    “SCIL基底保形壓印光刻”是一種經(jīng)濟(jì)高效、穩(wěn)健、高產(chǎn)量的工藝，可在多種材料上實(shí)現(xiàn)納米分辨率圖案。SCIL可實(shí)現(xiàn)在達(dá) 300 毫米的晶圓區(qū)域上提供經(jīng)過驗(yàn)證的高質(zhì)量壓印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻對(duì)齊精度小于 1 µm 的圖案。

  荷蘭SCIL公司同時(shí)開發(fā)了專利的無機(jī)玻璃納米壓印光刻膠，可直接作為功能層使用，可直接省去2個(gè)工藝步驟，大大降低了生產(chǎn)成本。

     荷蘭SCIL公司目前可提供2” 至 12”晶圓手動(dòng)研發(fā)工具到全自動(dòng)系統(tǒng)的全方位解決方案，并可以幫助客戶優(yōu)化設(shè)備、耗材和流程，以實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)。

n SCIL 技術(shù)特色

• 即使在非平坦和彎曲的表面上也可以保證保形接觸印刷（專利的模板復(fù)制技術(shù)）。
• 獨(dú)特的 SCIL 壓印工藝可確保＜10 nm 分辨率、低圖案變形和無顆粒損壞印模。
• 套刻對(duì)齊精度：< 1 µm
• Sol-gel的優(yōu)異蝕刻特性可得到極高的蝕刻率。
• Sol-gel的的熱穩(wěn)定性、光學(xué)透明度和（UV）穩(wěn)定性使其適合作為功能層。
• 使用熱Sol-gel大大增加了母版壽命。
• 總體而言，SCIL可將最高的壓印質(zhì)量和產(chǎn)量與高吞吐量和低總體擁有成本相結(jié)合。
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• n FabSCIL2全自動(dòng)產(chǎn)線納米壓印系統(tǒng)簡介

FabSCIL2全自動(dòng)納米壓印系統(tǒng)集成了兩套壓印單元，可用于兩種不同結(jié)構(gòu)的納米壓印，尺寸為 200 和 300 毫米晶圓，并具有自動(dòng)模具裝載和定位功能。它旨在與負(fù)責(zé)晶圓處理、對(duì)準(zhǔn)、旋涂、烘烤、冷卻和其他工藝制程。

n 應(yīng)用

納米圖案化是眾多納米光子應(yīng)用的關(guān)鍵工藝步驟。下面提到的應(yīng)用程序只是一個(gè)選擇。其他應(yīng)用包括：

• 增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)和虛擬現(xiàn)實(shí) (AR/VR) 光學(xué)
• MicroLED
• MEMS和傳感器