FabSCIL3 納米壓印光刻機

n 荷蘭SCIL公司簡介

  荷蘭SCIL公司是全球知名的納米壓印設備供應商，是荷蘭飛利浦公司投資的高科技公司之一，并與SUSS，Fraunhofer，AMO，AMOLF合作，共同開發了專利的“SCIL基底保形壓印”技術，真正意義上實現了納米壓印技術的工業wafer級量產，已經被國際上很多知名fab廠采用。

     “SCIL基底保形壓印光刻”是一種經濟高效、穩健、高產量的工藝，可在多種材料上實現納米分辨率圖案。SCIL可實現在達 300 毫米的晶圓區域上提供經過驗證的高質量壓印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻對齊精度小于 1 µm 的圖案。

  荷蘭SCIL公司同時開發了專利的無機玻璃納米壓印光刻膠，可直接作為功能層使用，可直接省去2個工藝步驟，大大降低了生產成本。

      荷蘭SCIL公司目前可提供2” 至 12”晶圓手動研發工具到全自動系統的全方位解決方案，并可以幫助客戶優化設備、耗材和流程，以實現大批量生產。

n SCIL 技術特色

• 即使在非平坦和彎曲的表面上也可以保證保形接觸印刷（專利的模板復制技術）。
• 獨特的 SCIL 壓印工藝可確保＜10 nm 分辨率、低圖案變形和無顆粒損壞印模。
• 套刻對齊精度：< 1 µm
• Sol-gel的優異蝕刻特性可得到極高的蝕刻率。
• Sol-gel的的熱穩定性、光學透明度和（UV）穩定性使其適合作為功能層。
• 使用熱Sol-gel大大增加了母版壽命。
• 總體而言，SCIL可將最高的壓印質量和產量與高吞吐量和低總體擁有成本相結合。

n FabSCILCluster3全自動產線納米壓印系統簡介

FabSCIL Cluster3 全自動產線納米壓印系統集成3套壓印模組，可以壓印 200 和 300 毫米晶圓，并具有自動模具裝載和定位功能。系統集成晶圓處理、對準、旋涂、烘烤、冷卻和其他工藝制程模組。

n 應用

納米圖案化是眾多納米光子應用的關鍵工藝步驟。下面提到的應用程序只是一個選擇。其他應用包括：

•  增強現實和虛擬現實 (AR/VR) 光學
•    MicroLED
•    MEMS和傳感器