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首頁    濕法(顯影刻蝕清洗)系統    8寸晶圓半自動臺式顯影機

8寸晶圓半自動臺式顯影機

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品牌:Osiris

型號:BASIXX ST20+

產地:德國

關鍵字:顯影、清洗、干燥

n產品簡介

 

OSIRIS BASIXX ST20+型半自動臺式顯影機主要用于晶圓或方片的顯影處理,可處理晶圓最大尺寸Ø8”(Ø 200mm)或方片6”Í6” (150mmÍ150mm)。系統內置軟件支持recipe管理,可對全自動輸液臂、旋轉盤、顯影液等進行精準控制,以達到最佳的顯影效果。該設備配有一個7”彩色觸摸屏,操作簡單,易于使用。

 

n產品簡介

 

÷ 半自動化系統,手動裝卸片,后續工藝通過設置recipe自動運行;

÷ 1個全自動輸液臂,最多5路管路,通過設置recipe自動控制噴嘴位置和液體流速;

÷ 通過氮氣壓力罐供應顯影液;

÷ 配有氮氣吹掃噴嘴;

÷ 配有去離子水DIW噴嘴;

÷ 集成UPS不間斷電源;

÷ 配有濕法加工防濺環,可拆卸,易于清洗;

÷ 可存儲多達200個recipe,每個recipe可設置20步;

÷ 配有集液盤,且加工腔可拆卸,易于清洗;

÷ 不同尺寸、多種類型的夾具可供選擇,包括濕法低接觸夾具和方片夾具;

÷ 加工腔及設備材質均為聚丙烯(PP-polypropylene);

 

n技術數據

 

÷ 最大尺寸:Ø8”(Ø 200mm)晶圓或6”Í6” (150mmÍ150mm)方片;

÷ 電機速度:最高10000rpm,步長1rpm;

÷ 電機加速度:4000rpm/sec;

÷ 步進時間:1到999.9秒,步長0.1秒;

 

創建時間:2021-09-30 21:00

產品中心

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