T200型多功能摩擦磨損試驗機
型號:T200
產(chǎn)地:美國
關(guān)鍵字:小載荷、摩擦試驗機、靜摩擦系數(shù)、磨損率
n產(chǎn)品簡介
T200型多功能摩擦磨損試驗機是美國NANOVEA公司新推出的一款小載荷連續(xù)變載多功能磨損試驗系統(tǒng),采用高級氣動加載方式,載荷實現(xiàn)了連續(xù)變載,最大法向加載載荷為200N,超低速可用于測量靜摩擦系數(shù),連續(xù)變速可以得到Stribeck 曲線,集成公司專利的二維形貌儀模塊可自動測量磨損率。同時采用模塊化設(shè)計,可根據(jù)客戶的應(yīng)用于預(yù)算任意搭配模塊,并且后期升級及其方便,是科研用戶的理想選擇。

n產(chǎn)品特性

- 可在同一儀器上實現(xiàn)旋轉(zhuǎn),線性往復(fù),微動,環(huán)塊,環(huán)環(huán),微米劃痕等多種測量功能,兼容所有的國際標準
- 采用位置譯碼器與速度譯碼器可精確控制馬達控制速度與位置
- 可進行原位摩擦磨損測試
- 高轉(zhuǎn)速:0.01-5000rpm,15000rpm可選
- 可測量靜摩擦系數(shù)及Stribeck曲線
- 多種控制環(huán)境模塊選項,如:氣體、濕度、潤滑等
- 多種高溫模式選件,最高可測1100℃環(huán)境下的摩擦磨損
- 接觸電阻測量選件可提供接觸電阻測試
- 表面形貌測試模塊選件:用于自動測量磨損率,磨損前后二維/三維表面形貌、磨損面積、磨損深度等表面參數(shù)
- 原位電化學(xué)工作站選件,可進行摩擦腐蝕方向的研究。
- 真空模塊選件,可實現(xiàn)真空環(huán)境下的摩擦磨損測試,真空度最低10-7Torr。
- 低溫模塊選件,可實現(xiàn)最低-150℃下的摩擦磨損測試
n主要技術(shù)參數(shù)
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最大載荷:200N |
X軸半徑自動控制范圍:50mm |
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最小載荷:50mN |
X軸半徑自動控制速度:0-5mm/s |
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載荷分辨率:0.015mN |
X軸半徑分辨率:2.5μm |
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旋轉(zhuǎn)速度:0.1-5000rpm,15000rpm可選 |
樣品臺尺寸:100mm |
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最大摩擦力:+/-100N |
接觸探頭:可選針型、球形與片型 |
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摩擦力分辨率:15μN |
儀器尺寸:59cm×42cm×75cm |
n可選件
- 線性往復(fù)模塊
- 環(huán)塊摩擦實驗
- 環(huán)環(huán)摩擦實驗
- 高溫模塊
- 潤滑模塊
- 原位磨損率測試模塊
- 電化學(xué)工作站模塊
- 光學(xué)顯微鏡模塊
- 真空模塊
- 低溫模塊
- 濕度
- 氣氛控制

產(chǎn)品中心
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三維表面形貌儀
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Mountains分析軟件
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微納米力學(xué)測試系統(tǒng)
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摩擦磨損試驗機
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SIC晶錠滾磨機/晶圓減薄機
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CMP化學(xué)機械拋光/后清洗機
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晶圓粘片機
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臨時鍵合機/解鍵合機
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晶圓厚度/三維形貌/膜厚測量系統(tǒng)
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表面顆粒度檢測系統(tǒng)
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原子力顯微鏡
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拉曼顯微鏡
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紅外光譜儀
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4D生物顯微鏡
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晶圓AOI系統(tǒng)
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晶圓電阻率/方塊電阻測量儀
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納米壓印系統(tǒng)
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光柵尺寸無損檢測儀
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磁控濺射/熱蒸發(fā)/電子束鍍膜系統(tǒng)
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LPCVD/PECVD
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干法刻蝕
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等離子灰化去膠系統(tǒng)
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晶圓勻膠機/噴膠機
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晶圓烤膠系統(tǒng)(熱板)
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濕法(顯影刻蝕清洗)系統(tǒng)
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晶圓貼片機/貼膜/解膠機
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棱鏡耦合儀
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快速退火爐/真空高溫爐
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光刻膠邊緣分析
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劃片機
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平面磨床/金屬研磨機
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接觸角測量儀