MPS RC Plus 晶圓研磨機
品牌：G&N
型號：MPS RC Plus
產地：德國
關鍵字：晶圓研磨機、晶圓減薄機、研磨機、減薄機
型號：MPS RC Plus
產地：德國
關鍵字：晶圓研磨機、晶圓減薄機、研磨機、減薄機
n簡介
用于磨削有色金屬和半導體材料的高精度磨床。
n應用
批量生產、研發部門，需要對硅、砷化鎵、鍺、磷化銦、氧化鋁、壓電陶瓷、石英、鐵氧體等材料進行微米級精度研磨。
n功能
- 電機主軸
- 旋轉臺
- 自動精細進給
- 可編程磨削循環程序
- 冷卻液供應
- 真空吸盤（多孔陶瓷）
- 晶圓直徑 2" 至 6"
n選項
- 濕磨系統
- 真空系統
- 真空吸盤
- 金剛石砂輪
n技術數據
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馬達 |
5.5 kW |
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主軸轉速 |
0-3200 min-1 |
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電源連接 |
4 kW |
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旋轉臺 |
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直徑 |
ø270 mm |
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轉速 |
5-200 min-1 可持續調節 |
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軸向擺動 |
< 2 µm |
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轉臺上方研磨高度 |
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金剛石/CBN |
300 mm |
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砂輪 |
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金剛石/CBN |
ø175 mm |
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卡盤數量 |
2"(18), 3"(8), 4"(5), 5"(3), 6"(2) |
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精細橫向進給 |
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范圍 |
300 mm |
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最小步長 |
1 µm |
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需要空間 |
1360 x 1030 x 1970 mm |
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重量 |
1850 kg |
創建時間：2021-10-03 22:00
產品中心
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三維表面形貌儀
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Mountains分析軟件
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微納米力學測試系統
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摩擦磨損試驗機
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SIC晶錠滾磨機/晶圓減薄機
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CMP化學機械拋光/后清洗機
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晶圓粘片機
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臨時鍵合機/解鍵合機
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晶圓厚度/三維形貌/膜厚測量系統
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表面顆粒度檢測系統
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原子力顯微鏡
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拉曼顯微鏡
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紅外光譜儀
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4D生物顯微鏡
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晶圓AOI系統
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晶圓電阻率/方塊電阻測量儀
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納米壓印系統
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光柵尺寸無損檢測儀
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磁控濺射/熱蒸發/電子束鍍膜系統
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LPCVD/PECVD
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干法刻蝕
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等離子灰化去膠系統
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晶圓勻膠機/噴膠機
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晶圓烤膠系統（熱板）
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濕法（顯影刻蝕清洗）系統
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晶圓貼片機/貼膜/解膠機
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棱鏡耦合儀
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快速退火爐/真空高溫爐
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光刻膠邊緣分析
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劃片機
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平面磨床/金屬研磨機
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接觸角測量儀
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