T2000型萬能摩擦磨損試驗機
型號:T2000
產(chǎn)地:美國
關(guān)鍵字:大載荷、摩擦試驗機、靜摩擦系數(shù)、磨損率
n 儀器簡介
T2000型萬能摩擦磨損試驗機是美國NANOVEA公司推出的一款大載荷連續(xù)變載的高速萬能摩擦試驗機,最大載荷達(dá)2000N,采用高級氣動加載方式,載荷實現(xiàn)了連續(xù)變載,超低速可用于測量靜摩擦系數(shù),連續(xù)變速可以得到Stribeck 曲線,集成公司專利的三維形貌儀模塊可自動測量磨損率與磨損前后的三維形貌。同時采用模塊化設(shè)計,可根據(jù)客戶的應(yīng)用于預(yù)算任意搭配模塊,并且后期升級及其方便,是科研用戶的理想選擇。

n 產(chǎn)品特性

美國NANOVEA公司的T2000型萬能摩擦磨損試驗機是一款具備多功能的摩擦磨損設(shè)備,可在一臺設(shè)備上實現(xiàn)線性往復(fù),旋轉(zhuǎn),螺旋線,環(huán)塊,四球等多種工作模式,具有多種可選模塊,是科研客戶及工業(yè)客戶的理想選擇。
- 可在同一儀器上實現(xiàn)多種測量功能,兼容所有的國際標(biāo)準(zhǔn);
- 采用位置譯碼器與速度譯碼器可精確控制馬達(dá)控制速度與位置;
- 可進(jìn)行原位摩擦磨損測試;
- 有線性往復(fù),旋轉(zhuǎn),螺旋線,環(huán)塊,四球等多種工作模式;
- 高轉(zhuǎn)速:0.01-2000rpm,0.05-5000rpm可選;
- 可測量靜摩擦系數(shù)及Stribeck曲線;
- 多種控制環(huán)境模塊選項,如:氣體、濕度、潤滑等;
- 多種高溫模式選件,最高溫達(dá)1100℃;
- 實時接觸電阻測量選件可提供接觸電阻測試
- 提供表面形貌測試模塊選件:用于自動測量磨損率,磨損前后二維表面形貌、磨損面積、磨損深度等表面參數(shù)
- 原位電化學(xué)工作站選件,搭配普林斯頓的電化學(xué)工作站進(jìn)行摩擦腐蝕方向的研究。
- 真空模塊選件,可實現(xiàn)真空環(huán)境下的摩擦磨損測試。
- 低溫模塊選件,可實現(xiàn)低溫-150℃下的摩擦磨損測試
- 真正的疲勞測試,震蕩振幅0.2-20N,頻率最高150Hz
n主要技術(shù)參數(shù)
- 載荷范圍:0.5N-2000N
- 載荷分辨率:0.12mN
- 摩擦力范圍:+/-1000N
- 摩擦力分辨率:6μN
- 轉(zhuǎn)速:0.01-5000rpm或0.05-15000rpm
- 線性往復(fù)最大磨損長度:25mm
- 高溫:1100℃
- 低溫:-150℃
- 真空度:<10-7Torr
- 疲勞測試:震蕩振幅0.2-20N,頻率最高150Hz
- 最大扭矩:14.7Nm
n 可選件
- 線性往復(fù)模塊
- 環(huán)塊模塊
- 四球模塊
- 劃痕模塊
- 高溫模塊
- 潤滑模塊
- 濕度模塊
- 氣氛控制模塊
- 原位磨損率測試模塊
- 電化學(xué)工作站模塊
- 光學(xué)顯微鏡模塊
- 真空模塊
- 低溫模塊接觸電阻模塊
- 三維高速形貌儀模塊
產(chǎn)品中心
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三維表面形貌儀
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Mountains分析軟件
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微納米力學(xué)測試系統(tǒng)
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摩擦磨損試驗機
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SIC晶錠滾磨機/晶圓減薄機
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CMP化學(xué)機械拋光/后清洗機
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晶圓粘片機
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臨時鍵合機/解鍵合機
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晶圓厚度/三維形貌/膜厚測量系統(tǒng)
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表面顆粒度檢測系統(tǒng)
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原子力顯微鏡
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拉曼顯微鏡
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紅外光譜儀
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4D生物顯微鏡
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晶圓AOI系統(tǒng)
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晶圓電阻率/方塊電阻測量儀
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納米壓印系統(tǒng)
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光柵尺寸無損檢測儀
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磁控濺射/熱蒸發(fā)/電子束鍍膜系統(tǒng)
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LPCVD/PECVD
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干法刻蝕
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等離子灰化去膠系統(tǒng)
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晶圓勻膠機/噴膠機
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晶圓烤膠系統(tǒng)(熱板)
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濕法(顯影刻蝕清洗)系統(tǒng)
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晶圓貼片機/貼膜/解膠機
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棱鏡耦合儀
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快速退火爐/真空高溫爐
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光刻膠邊緣分析
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劃片機
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平面磨床/金屬研磨機
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接觸角測量儀