4，6，8寸研發級CMP拋光機

n產品簡介

    韓國CTS公司的AP200型CMP拋光機是一款科研級的CMP系統，采用CTS公司工業級的CMP技術，為科研工作者及先進制程開發公司提供了一套研究級別的高端設備，可兼容4寸，6寸，8寸樣品.

n產品主要特色

- CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，核心區，邊緣區，保持環三區壓力控制，可得到良好的工業級拋光效果；

- 自動上下片，自動拋光，干進濕出；

- 拋光墊修整器：擺臂式設計，由10個傳感器分別控制10個區域的下壓力，可保證拋光墊高水平修整；

- 拋光墊修整器：具有在線修整與離線修整兩種模式；

- 工藝數據可實時監測；

- 可存儲多個Recipe。

n核心技術參數

n應用

- CMP工藝 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金屬 CMP(W, Cu), 介質膜，STI等

- 工藝開發 可協助客戶進行各類材料/薄膜等的CMP工藝技術開發