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大尺寸濕法處理系統

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品牌:Osiris

型號:CHEMIXX  760

產地:德國

關鍵字:CMP后清洗、濕法刻蝕、顯影機,濕法清洗機

n產品簡介

 

CHEMIXX  760系統是一款大尺寸濕法系統,支持最大樣品達535X535mm(21寸方片),更大的樣品尺寸可定制,一臺系統可實現清洗、蝕刻 、顯影 ,干燥整個工藝過程。

 

n產品特色

 

÷ 基板尺寸高達 535 x 535 mm/21 x 21 inch

÷ 手動裝載半自動系統

÷ 兩個用于化學液輸送和機械清洗的電動輸送臂

÷ 提供多種噴嘴,spray,puddle,噴霧,5孔碰頭等

÷ 低接觸或定制夾具

÷ 化學液具有加熱功能,最高 60°C (85°C) 

÷ 集成三種不同化學液供液系統,外部液體罐可選

÷ 手動灌裝或通過批量灌裝系統

÷ 工藝室外的手動去離子水槍

÷ 去離子水室沖洗

÷ 系統前端的緊急停止按鈕

÷ 傳感器控制的 3 路排水系統可通過配方進行編程。

÷ 帶有三個光區的信號燈,用于系統狀態的可視化

÷ 支持化學液清洗,兆聲清洗,PVA刷洗,吹干等工藝

÷ 滿足潔凈室等級 10 (ISO 4) 的一般設計

 

n技術數據

 

÷ 襯底尺寸: 最大可達 535 x 535 mm / 21 x 21 inch

÷ 電機轉速: 最大 3.000 rpm, 步長 1 rpm

÷ 電機加速: 最大 2.000 rpm/s,步長 1 rpm/s

÷ 步進時間: 1 999.9 秒,步長為 0.1

÷ 工藝腔室材料:  PP (可選 PVDF)

 

                                 

創建時間:2021-09-30 19:45

產品中心

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