全自動(dòng)濕法處理系統(tǒng)

n產(chǎn)品簡(jiǎn)介

CHEMIXX 1201是全自動(dòng)濕法處理系統(tǒng)，配置cassette to cassette 或foup,，支持12寸及以下尺寸晶圓或9 x 9 英寸方片的濕法處理，包括蝕刻、清潔或顯影工藝。該系統(tǒng)可配置3個(gè)自動(dòng)輸送臂，多種不同的噴嘴，以滿足不同的濕法應(yīng)用。

n產(chǎn)品特色

÷ 應(yīng)用領(lǐng)域：清洗、蝕刻或顯影

÷ 襯底尺寸可達(dá) Ø300 毫米或可達(dá) 230 x 230 毫米

÷ 最多三個(gè)自動(dòng)輸送臂

÷ 可選不同類(lèi)型的噴嘴和 BSR 噴嘴

÷ 去離子水室沖洗

÷ 電阻率 PH-Sensor 控制

÷ 單臂或雙臂機(jī)械臂

÷ 帶 FOUP 或 Cassette 的

÷ 真空或低接觸卡盤(pán)

÷ 外部10或40升不同化學(xué)品罐可選

÷ 由 PP 制成的工藝室（可選 ECTFE）

÷ 兩個(gè)或多個(gè)排液分流器（傳感器控制和通過(guò)配方編程）

÷ 帶有四個(gè)光區(qū)的信號(hào)燈，使系統(tǒng)狀態(tài)可視化

÷ 滿足潔凈室等級(jí) 10 (ISO 4) 的通用設(shè)計(jì)

÷ 兼容SCES/GEM通訊協(xié)議

÷ 清洗部分，包含PVA刷洗，兆聲清洗，化學(xué)液清洗等模組

n技術(shù)數(shù)據(jù)

÷ 襯底尺寸: 最大可達(dá) Ø300 mm (Ø12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)

÷ 電機(jī)轉(zhuǎn)速: 最大 6.000 轉(zhuǎn)數(shù)*, 以 1 轉(zhuǎn) 步進(jìn)可編程

÷ 電機(jī)加速: 最大 40.000 轉(zhuǎn)/秒*, 以 1 轉(zhuǎn)/秒的步進(jìn)

÷ 步進(jìn)時(shí)間: 1 至 999.9 秒，步長(zhǎng)為 0.1 秒

系統(tǒng)架構(gòu): 由粉末涂層不銹鋼制成，4 個(gè)可調(diào)節(jié)支腳和運(yùn)輸輪以及用于加工區(qū)域的透明和可鎖定的玻璃門(mén)

÷ 處理室: 由 PP 白色制成（可選 ECTFE）

網(wǎng)站關(guān)鍵詞：臨時(shí)鍵合機(jī)  濕法系統(tǒng)  濕法臺(tái)  濕法臺(tái)  金屬減薄機(jī)  晶圓貼片機(jī)  晶圓貼膜機(jī)  金屬研磨機(jī)   微米劃痕儀  CMP拋光機(jī)    納米劃痕儀  晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng)  晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng)  晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng)   晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng)  拉曼顯微鏡  三維表面形貌儀  掃描超聲顯微鏡  化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)  CMP后清洗機(jī)  CMP后清洗機(jī)   CMP后清洗機(jī)  棱鏡耦合儀  棱鏡耦合儀  超聲顯微鏡