Alpha300RA拉曼與原子力聯用系統

n產品簡介：

      Alpha300 RA使拉曼顯微鏡和原子力顯微鏡兩種互補的成像技術在一臺儀器上實現，各自的性能完全不受聯用的影響，而且共用一個操作軟件，其操作和分析變得簡單可靠。在拉曼和原子力兩種成像模式之間進行切換只需轉動物鏡轉盤，成像軟件即可原位完成兩種技術的圖像比對、疊加和分析。

n聯用技術簡介：

       Alpha300 RA是市面上第一個高度集成的拉曼—原子力聯用系統，并繼續為拉曼-原子力聯用顯微鏡的組合儀器設定標準。alpha300 RA集成了顯微共焦拉曼系統alpha300 R的所有特點，在進行化學組分分析的同時，也加入了原子力顯微鏡（alpha300 A）用于高分辨率的納米級形貌分析。因此，Raman-AFM聯用成像有助于研究者對樣品進行全面了解。此外alpha300 RA可進一步升級做TERS（高分辨拉曼）測量。 

n產品特色

- 拉曼—原子力同時測量的理想選擇之一

- 真正原位：完全不需要在測量過程中移動樣品

- 只需轉動物鏡即可實現兩種技術的切換

- 在一臺顯微鏡上涵蓋Alpha300 R（拉曼）和Alpha300 A（原子力）的所有功能

- 納米級表面分析（原子力）與原位化學組分成像（拉曼）完美結合

n應用實例

Combined Raman-AFM measurement of the same sample area of a multicomponent polymer blend consisting of a 1:1:1 mixture of polystyrene, SRB (styrene-butadiene-rubber) and EHA (ethylhexal acrylate).

Raman image (left): green = PS, red= SRB, blue = EHA.

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Correlative Raman-AFM microscopy of stress in silicon. Left: 10 μm x 10 μm AFM topography image and depth profile (bottom). Right: Corresponding Raman image revealing the stress areas in silicon.

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Confocal Raman image of the 1st order Si line (left) and the intensity profile along the cross section marked in blue (right).

n主要性能指標 

拉曼操作模式

- 拉曼光譜成像：每個樣品點都能獲取完整的拉曼光譜

- 2D和3D成像模式：平面（x-y方向）和深度掃描（z方向）

- 快速和慢速時間序列

- 單點拉曼光譜采集

- 光纖耦合的UHTS 系列光譜儀，專為弱光應用的拉曼光譜設計

- 共焦熒光顯微鏡 

- 明場顯微鏡功能

 原子力顯微鏡操作模式

- 接觸模式

- AC 模式（輕敲模式）

- 數字脈沖力模式 (DPFM)

- 抬高模式

- 磁力顯微鏡(MFM)

- 靜電力顯微鏡 (EFM)

- 相位成像

- 力曲線分析

- 微納操控及微納印刷

- 橫向力模式 (LFM)

- 化學力模式 (CFM)

- 電流傳感模式

顯微鏡基本指標

- 研究級光學顯微鏡，6孔物鏡轉盤

- 視頻系統：CCD相機

- 高靈敏度b/w相機，可在傳輸過程中觀察樣品和AFM針尖

- LED明場科勒照明

- 電動XYZ樣品臺，25x25x20mm平移范圍

- 主動隔震平臺

拉曼可選/升級選項

- UV-VIS-NIR多種激光可選

- 多種光譜儀可選

- 超快拉曼成像(每秒1300個光譜) 可選

- 自動共聚焦拉曼成像 (25 x 25 mm²; 50 x 50 mm²可選)

- TrueSurface功能

- 自動聚焦功能

- 自動多區域多點測量

- 可升級落射熒光照明

WITec超高通光量UHTS光譜儀

- 各種波長優化的透射式光譜儀可選 (UV, VIS 或 NIR)，專為弱光拉曼光譜設計

- 光纖耦合，高達70%傳輸效率

- 優異的成像質量，光譜峰形對稱無畸變