標準濕法處理系統

n產品簡介

CHEMIXX 30pm濕法臺是一款半自動單面濕法系統，主要用于晶圓或者方片的清洗，刻蝕，顯影等應用，其中清洗部分具有化學清洗，兆聲清洗，PVA刷洗，高壓DI水沖洗，背部清洗等多種功能。

n產品特色

÷ 圓形晶圓最大可達 Ø 300mm

÷ 方形襯底最大可達 9 x 9 inch

÷ 最多兩個電動輸送臂，每個最多 6 個管路

÷ 液體加熱模塊高達 60°C

÷ 用于去離子水的背面沖洗

÷ 集成三種不同化學品液供應系統

÷ 工藝室外的手動去離子水槍

÷  工藝室自動去離子水沖洗可選

÷ 帶有流孔的工藝室檔板

n技術數據

÷ 襯底尺寸: 最大可達 Ø 300mm (Ø12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)

÷ 電機轉速: 最大 3.000 rpm, 步進1 rpm

÷ 步進時間: 1 至 999.9 秒，步長 0.1 s

÷ 系統架構: 由粉末涂層不銹鋼制成

÷ 處理室材料:  PP （可選 PVDF)

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