全自動晶圓厚度測量系統

n產品簡介:

SemDex A32型全自動晶圓厚度測量系統是德國SENTRONICS公司一款高性能的半導體用全自動晶圓厚度測量系統，該系統集成了紅外光譜干涉測量技術，光學干涉技術及光學反射技術的測量探頭，廣泛用于半導體Wafer Manufacturing, FEOL, BEOL 及Wafer Level Packaging領域，SENTRONICS以其精準的測量能力，非接觸的測量方式，快速的測試速度，上下雙探頭符合SEMI標準的測試方式，使得該設備在半導體，MEMS，在化合物外延領域測量晶圓厚度擁有很高的市場占有率，全球半導體行業已有120多個Fab工廠已安裝該系統。

n主要功能：

1、紅外光譜技術：采用專利的光譜相干干涉技術，該技術可用于測量最小厚度為1um的wafer, 分辨率可達納米量級，主要用于測量晶圓厚度、TTV、Bow、Warp、RST、wafer上薄膜厚度。

   可以測量背面研磨減薄和刻蝕后的晶圓厚度，也可測量粘附在薄膜或者其他載體上的有圖形或凸起的晶圓，可應用于堆疊芯片和微機電系統。

   配置單探頭系統，可以測量一些對紅外線透明的材料，例如Si, GaAs, InP, SiC, 玻璃，石英和一些聚合物，還可以測量常規有圖形、有膠帶、凸起或者鍵合在載體上晶圓的襯底厚度。

   配置雙探頭系統時，還提供晶圓整體厚度測量（包括襯底厚度和在光不能穿透的情況下的圖形高度厚度)。

   還可以測量溝槽深度和通孔深度（包括微機電中的高深寬比的溝槽和通孔），微機電應用中薄膜厚度測量和凸塊高度測量。

2、白光干涉技術：采用白光干涉技術，可得到wafer表面的3D形貌，表面粗糙度，TSV等關鍵尺寸，測量范圍為0-100um，分辨率為亞納米水平。

3、光學反射技術：采用光學反射技術，可得到wafer表面涂層或薄膜的厚度，可測量最小厚度5nm的薄膜，分辨率為亞納米量級。

n產品特點：

- 兼容4,6,8,12寸樣品；

- 所有檢測數據，一步同時完成測量；

- 可在一臺儀器上搭配不同技術的測量探頭，用于測量晶圓厚度、TTV、Bow、Warp、RST、wafer上薄膜厚度，3D形貌，TSV，關鍵尺寸，粗糙度等參數。

- 符合SEMI S2和S8標準； 

- 最多可加載4個8寸片Load Port或者3個12寸片Load Port；

- 兩個可翻轉的機械手臂，吞吐量最高達100 wafers /h；

- 旋轉臺用于晶圓全尺寸快速測量；

- SECS/GEM軟件包，可以根據用戶提供定制化需要；

- 用戶界面友好的WaferSpect 軟件；

n選配件

1、真空吸盤；

2、高分辨率HD CMOS相機及圖像識別的軟件；

3、集成OCR、條形碼或QR碼識別的攝像頭；

4、區分不同Cassette類型的閱讀信息板；

5、通過測試數據自動進行分揀

n應用行業：

- 化合物半導體：研磨芯片厚度控制GaAs，InP, SiC，GaN 

- 硅基器件前段：功率器件，MEMS，射頻MEMS

- 硅基器件后段：8”和12”的封裝及bumping線，TSV(硅通孔技術)

- LED：可用作檢測藍寶石或碳化硅片厚度及TTV

- 光通訊：石英材料類

n典型應用案例：

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