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全自動濕法處理系統

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品牌:Osiris

型號:CHEMIXX  1201

產地:德國

關鍵字:全自動、CMP后清洗、刻蝕、顯影

n產品簡介

 

CHEMIXX 1201是全自動濕法處理系統,配置cassette to cassette 或foup,,支持12寸及以下尺寸晶圓或9 x 9 英寸方片的濕法處理,包括蝕刻、清潔或顯影工藝。該系統可配置3個自動輸送臂,多種不同的噴嘴,以滿足不同的濕法應用。

 

n產品特色

 

÷ 應用領域:清洗、蝕刻或顯影

÷ 襯底尺寸可達 Ø300 毫米或可達 230 x 230 毫米

÷ 最多三個自動輸送臂

÷ 可選不同類型的噴嘴和 BSR 噴嘴

÷ 去離子水室沖洗

÷ 電阻率 PH-Sensor 控制

÷ 單臂或雙臂機械臂

÷ FOUP Cassette

÷ 真空或低接觸卡盤

÷ 外部1040升不同化學品罐可選

÷ PP 制成的工藝室(可選 ECTFE

÷ 兩個或多個排液分流器(傳感器控制和通過配方編程)

÷ 帶有四個光區的信號燈,使系統狀態可視化

÷ 滿足潔凈室等級 10 (ISO 4) 的通用設計

÷ 兼容SCES/GEM通訊協議

÷ 清洗部分,包含PVA刷洗,兆聲清洗,化學液清洗等模組

 

n技術數據

 

÷ 襯底尺寸: 最大可達 Ø300 mm (Ø12 inch) 230 x 230 mm (9 x 9 inch)

÷ 電機轉速: 最大 6.000 轉數*, 1 步進可編程

÷ 電機加速: 最大 40.000 /*, 1 /秒的步進

÷ 步進時間: 1 999.9 秒,步長為 0.1

系統架構: 由粉末涂層不銹鋼制成,4 個可調節支腳和運輸輪以及用于加工區域的透明和可鎖定的玻璃門

÷ 處理室: PP 白色制成(可選 ECTFE

 

          

 

 

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創建時間:2023-04-10 16:54

產品中心

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