n產品簡介：

     SWC-4000型CMP后清洗機是美國NANO MASTER公司開發的一款科研級的高端清洗系統，用于去除晶圓在CMP工藝后晶圓表面污染物、殘留物、或微塵顆粒等。該系統集成了美國NANO MASTER公司無損DI水兆聲清洗專利技術，配合四路的化學試劑清洗，PVA刷洗以及帶異丙醇的高速甩干等清洗模塊，對于單片清洗而言具有頂級的基底清洗能力，是科研CMP后清洗機的首選儀器。

n技術特色：

- 兼容4,6,8,12寸片晶圓，同時可用于最大7”X 7”掩膜版清洗。
- 干進干出或濕進干出。
- 集成了專利的無損兆聲清洗技術，同時支持去離子水沖洗、化學試劑清洗、PVA刷子刷洗、紅外燈烘干/氮氣吹掃甩干清洗模塊。
-  配置4路化學容器罐，可支持4路化學清洗液進行清洗。
- 兩種干燥模式：高速甩干與紅外烘干，可同時使用。
- 用戶可編程的清洗干燥工序，比如：
     Cycle I：化學試劑清洗
     Cycle II：去離子水沖洗
     Cycle III：刷子刷洗
     Cycle IV：兆聲去離子水清洗
     Cycle V：旋轉甩干，氮氣吹掃及紅外燈烘干
  每一套程序可以支持 20 個操作步驟。
- 可以存儲多達 25 套產品程序。
- 結構緊湊，集成度高：把所有的清洗需要集成到一個緊湊的立柜中 ，旋轉清洗單元、兆聲脈沖射流清洗器、試劑容器以及所有的閥及傳感器都全部包含到該系統。
- 帶觸摸屏的PLC控制。

n主要技術參數：

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