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首頁    CMP化學(xué)機械拋光/后清洗機    12寸工業(yè)級全自動CMP拋光機

12寸工業(yè)級全自動CMP拋光機

4改3
品牌:CTS

 型號:AIP-300

 產(chǎn)地:韓國

 關(guān)鍵字:化學(xué)機械拋光機、工業(yè)級化學(xué)機械拋光機、全自動化學(xué)機械拋光機

n產(chǎn)品簡介

 

      韓國CTS公司的AIP-300CMP拋光機是一款12寸工業(yè)級CMP系統(tǒng),可兼容4寸,6寸,8寸,12寸樣品,可用于工廠及批量生產(chǎn)。

 

n產(chǎn)品主要特色

 

- CMP拋光頭:采用氣囊加載模式,5區(qū)壓力獨立控制,可得到良好的工業(yè)級拋光效果;

- 自動上下片,自動拋光,干進(jìn)干出。

- 拋光墊修整器:擺臂式設(shè)計,由13個傳感器分別控制13個區(qū)域的下壓力,可保證拋光墊高水平修整;

- 拋光墊修整器:具有在線修整與離線修整兩種模式。

- 工藝數(shù)據(jù)可實時監(jiān)測。

- 可存儲多個Recipe。

- 帶兩個手臂

-帶全自動后清洗模塊

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n核心技術(shù)參數(shù)

拋光頭

兼容8寸,12

拋光頭數(shù)量

2/4

拋光頭擺動范圍

±15mm

拋光頭轉(zhuǎn)速

0 ~ 200 rpm

拋光頭加壓方式

氣囊柔性加壓背壓功能(5區(qū)加壓)

拋光頭壓力范圍

0.14 ~ 14 psi

拋光盤尺寸

30英寸

拋光盤數(shù)量

1/2

拋光盤轉(zhuǎn)速

0 ~ 200 rpm

蠕動泵

2

拋光液流速

0 ~ 500 cc/min

拋光墊修整器分區(qū)

13區(qū)

拋光墊修整器在線掃描速度

10sweeps/min

拋光墊修整器下壓力

3-20lbs

拋光墊修整器轉(zhuǎn)速

0-150rpm

CMP后片內(nèi)非均勻性WIWNU

1sigma,去邊5mm

< 5%

CMP后片間非均勻性WTWNU

1sigma,去邊5mm

< 3%

全自動機械臂

2

后清洗系統(tǒng)

包含高壓DIW沖洗,雙面PVA刷洗,化學(xué)液清洗,高速甩干等功能。

冷卻系統(tǒng)

包含

EFEM

包含

 

n應(yīng)用案例

 

- CMP工藝 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金屬 CMP(W, Cu), 介質(zhì)膜,STI

 

 

 

 

 

 

 

 

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創(chuàng)建時間:2021-10-02 08:00

產(chǎn)品中心

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