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CMP后單面清洗機(jī)

SWC-4000型CMP后清洗機(jī)-1

넳 넲

品牌：NANO-MASTER

型號(hào)： SWC-4000

產(chǎn)地：美國

關(guān)鍵字：CMP，清洗機(jī)，晶圓清洗機(jī)

?前一個(gè)： 12寸工業(yè)級(jí)全自動(dòng)CMP拋光機(jī)

n產(chǎn)品簡介：

SWC-4000型CMP后清洗機(jī)是美國NANO MASTER公司開發(fā)的一款科研級(jí)的高端清洗系統(tǒng)，用于去除晶圓在CMP工藝后晶圓表面污染物、殘留物、或微塵顆粒等。該系統(tǒng)集成了美國NANO MASTER公司無損DI水兆聲清洗專利技術(shù)，配合四路的化學(xué)試劑清洗，PVA刷洗以及帶異丙醇的高速甩干等清洗模塊，對(duì)于單片清洗而言具有頂級(jí)的基底清洗能力，是科研CMP后清洗機(jī)的首選儀器。

n技術(shù)特色：

- 兼容4,6,8,12寸片晶圓，同時(shí)可用于最大7”X 7”掩膜版清洗。
- 干進(jìn)干出或濕進(jìn)干出。
- 集成了專利的無損兆聲清洗技術(shù)，同時(shí)支持去離子水沖洗、化學(xué)試劑清洗、PVA刷子刷洗、紅外燈烘干/氮?dú)獯祾咚Ω汕逑茨K。
- 配置4路化學(xué)容器罐，可支持4路化學(xué)清洗液進(jìn)行清洗。
- 兩種干燥模式：高速甩干與紅外烘干，可同時(shí)使用。
- 用戶可編程的清洗干燥工序，比如：
Cycle I：化學(xué)試劑清洗
Cycle II：去離子水沖洗
Cycle III：刷子刷洗
Cycle IV：兆聲去離子水清洗
Cycle V：旋轉(zhuǎn)甩干，氮?dú)獯祾呒凹t外燈烘干
每一套程序可以支持 20 個(gè)操作步驟。
- 可以存儲(chǔ)多達(dá) 25 套產(chǎn)品程序。
- 結(jié)構(gòu)緊湊，集成度高：把所有的清洗需要集成到一個(gè)緊湊的立柜中，旋轉(zhuǎn)清洗單元、兆聲脈沖射流清洗器、試劑容器以及所有的閥及傳感器都全部包含到該系統(tǒng)。
- 帶觸摸屏的PLC控制。

n主要技術(shù)參數(shù)：

Wafer尺寸	4,6,8,12寸片晶圓，可用于最大7”X 7”掩膜版清洗
清洗模塊	去離子水沖洗、PVA刷子刷洗、化學(xué)試劑清洗、兆聲清洗
去離子水	1.5L/min，30PSI
PVA刷	刷子旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速：最大400RPM
化學(xué)試劑清洗	4個(gè)4升容器罐用于裝稀釋的化學(xué)清洗液，通過N2施壓控制流量與容器罐裝卸。
兆聲清洗	頻率：1MHz功率：60W
干燥方式	旋轉(zhuǎn)甩干、氮?dú)獯祾?、紅外燈烘干
存儲(chǔ)recipe	最多25個(gè)，每1個(gè)recipe可以支持 20 個(gè)清洗步驟，而在每一個(gè)步驟中可以設(shè)定以下參數(shù)： RPM 轉(zhuǎn)速（維持的轉(zhuǎn)速、 RAMP加速梯度（多快時(shí)間達(dá)到那個(gè)速度）、 Dwell 運(yùn)行時(shí)間（維持想要的速度的時(shí)間有多長）。
旋轉(zhuǎn)臺(tái)	轉(zhuǎn)速：0-2000RPM 加速度/減速度：<1-25.5秒（以0.1秒為增量）
每步驟旋轉(zhuǎn)維持時(shí)間	最大到550秒（以0.1秒為增量）
每步驟(維持旋轉(zhuǎn))的試劑分布時(shí)間	1-540秒（以1秒為增量）
每步驟(變速階段)的試劑分布時(shí)間	1-25秒（以1秒為增量）
化學(xué)試劑分配速率	@15 PSI of N2, 83 c cm (based on D.I. H2O) @20 PSI of N2, 1 33 ccm (based on D.I. H 2 O)
控制器	PLC控制系統(tǒng)，LCD觸控屏控制
儀器尺寸	28”32”54”

網(wǎng)站關(guān)鍵詞：臨時(shí)鍵合機(jī) 濕法系統(tǒng) 濕法臺(tái) 濕法臺(tái) 金屬減薄機(jī) 晶圓貼片機(jī) 晶圓貼膜機(jī) 金屬研磨機(jī) 微米劃痕儀 CMP拋光機(jī) 納米劃痕儀晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng) 晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng) 晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng) 晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng) 拉曼顯微鏡三維表面形貌儀掃描超聲顯微鏡化學(xué)機(jī)械拋光機(jī) CMP后清洗機(jī) CMP后清洗機(jī) CMP后清洗機(jī) 棱鏡耦合儀棱鏡耦合儀超聲顯微鏡

創(chuàng)建時(shí)間：2021-10-01 12:00

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