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12寸科研級CMP拋光機

AP300

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品牌：CTS

型號：AP-300

產地：韓國

關鍵字：化學機械拋光機、拋光機

n產品簡介

韓國CTS公司的AIP-300型CMP拋光機是一款12寸工業級CMP系統，可兼容8寸，12寸樣品，可用于工廠及批量生產。

n產品主要特色

- CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，5區壓力獨立控制，可得到良好的工業級拋光效果；

- 自動上下片，自動拋光，干進干出。

- 拋光墊修整器：擺臂式設計，由13個傳感器分別控制13個區域的下壓力，可保證拋光墊高水平修整；

- 拋光墊修整器：具有在線修整與離線修整兩種模式。

- 工藝數據可實時監測。

- 可存儲多個Recipe。

- 帶兩個手臂

-帶全自動后清洗模塊

n核心技術參數

拋光頭	兼容8寸，12寸
拋光頭數量	2個/4個
拋光頭擺動范圍	±15mm
拋光頭轉速	0 ~ 200 rpm
拋光頭加壓方式	氣囊柔性加壓背壓功能（5區加壓）
拋光頭壓力范圍	0.14 ~ 14 psi
拋光盤尺寸	30英寸
拋光盤數量	1個/2個
拋光盤轉速	0 ~ 200 rpm
蠕動泵	2個
拋光液流速	0 ~ 500 cc/min
拋光墊修整器分區	13區
拋光墊修整器在線掃描速度	10sweeps/min
拋光墊修整器下壓力	3-20lbs
拋光墊修整器轉速	0-150rpm
CMP后片內非均勻性WIWNU 1sigma，去邊5mm	< 5%
CMP后片間非均勻性WTWNU 1sigma，去邊5mm	< 3%
全自動機械臂	2套
后清洗系統	包含高壓DIW沖洗，雙面PVA刷洗，化學液清洗，高速甩干等功能。
冷卻系統	包含
EFEM	包含

n應用案例

CMP工藝 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金屬 CMP(W, Cu), 介質膜，STI等

創建時間：2021-02-05 21:35

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