首頁(yè) ꄲ 首頁(yè)產(chǎn)品 ꄲ CMP化學(xué)機(jī)械拋光機(jī) ꄲ 12寸科研級(jí)CMP拋光機(jī)

12寸科研級(jí)CMP拋光機(jī)

AP300

넳 넲

品牌：CTS

型號(hào)：AP-300

產(chǎn)地：韓國(guó)

關(guān)鍵字：化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)、拋光機(jī)

n產(chǎn)品簡(jiǎn)介

韓國(guó)CTS公司的AIP-300型CMP拋光機(jī)是一款12寸工業(yè)級(jí)CMP系統(tǒng)，可兼容8寸，12寸樣品，可用于工廠及批量生產(chǎn)。

n產(chǎn)品主要特色

- CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，5區(qū)壓力獨(dú)立控制，可得到良好的工業(yè)級(jí)拋光效果；

- 自動(dòng)上下片，自動(dòng)拋光，干進(jìn)干出。

- 拋光墊修整器：擺臂式設(shè)計(jì)，由13個(gè)傳感器分別控制13個(gè)區(qū)域的下壓力，可保證拋光墊高水平修整；

- 拋光墊修整器：具有在線修整與離線修整兩種模式。

- 工藝數(shù)據(jù)可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。

- 可存儲(chǔ)多個(gè)Recipe。

- 帶兩個(gè)手臂

-帶全自動(dòng)后清洗模塊

n核心技術(shù)參數(shù)

拋光頭	兼容8寸，12寸
拋光頭數(shù)量	2個(gè)/4個(gè)
拋光頭擺動(dòng)范圍	±15mm
拋光頭轉(zhuǎn)速	0 ~ 200 rpm
拋光頭加壓方式	氣囊柔性加壓背壓功能（5區(qū)加壓）
拋光頭壓力范圍	0.14 ~ 14 psi
拋光盤(pán)尺寸	30英寸
拋光盤(pán)數(shù)量	1個(gè)/2個(gè)
拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速	0 ~ 200 rpm
蠕動(dòng)泵	2個(gè)
拋光液流速	0 ~ 500 cc/min
拋光墊修整器分區(qū)	13區(qū)
拋光墊修整器在線掃描速度	10sweeps/min
拋光墊修整器下壓力	3-20lbs
拋光墊修整器轉(zhuǎn)速	0-150rpm
CMP后片內(nèi)非均勻性WIWNU 1sigma，去邊5mm	< 5%
CMP后片間非均勻性WTWNU 1sigma，去邊5mm	< 3%
全自動(dòng)機(jī)械臂	2套
后清洗系統(tǒng)	包含高壓DIW沖洗，雙面PVA刷洗，化學(xué)液清洗，高速甩干等功能。
冷卻系統(tǒng)	包含
EFEM	包含

n應(yīng)用案例

CMP工藝 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金屬 CMP(W, Cu), 介質(zhì)膜，STI等

創(chuàng)建時(shí)間：2021-02-05 21:35

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