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首頁    首頁產品    CMP化學機械拋光機    12寸工業級全自動CMP拋光機

12寸工業級全自動CMP拋光機

4改3
品牌:CTS

 型號:AIP-300

 產地:韓國

 關鍵字:化學機械拋光機、工業級化學機械拋光機、全自動化學機械拋光機

n產品簡介

      韓國CTS公司的AIP-300CMP拋光機是一款12寸工業級CMP系統,可兼容8寸,12寸樣品,可用于工廠及批量生產。

n產品主要特色

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

- CMP拋光頭:采用氣囊加載模式,5區壓力獨立控制,可得到良好的工業級拋光效果;

- 自動上下片,自動拋光,干進干出。

- 拋光墊修整器:擺臂式設計,由13個傳感器分別控制13個區域的下壓力,可保證拋光墊高水平修整;

- 拋光墊修整器:具有在線修整與離線修整兩種模式。

- 工藝數據可實時監測。

- 可存儲多個Recipe。

- 帶兩個手臂

-帶全自動后清洗模塊

 

n核心技術參數

 

拋光頭

兼容8寸,12

拋光頭數量

2/4

拋光頭擺動范圍

±15mm

拋光頭轉速

0 ~ 200 rpm

拋光頭加壓方式

氣囊柔性加壓背壓功能(5區加壓)

拋光頭壓力范圍

0.14 ~ 14 psi

拋光盤尺寸

30英寸

拋光盤數量

1/2

拋光盤轉速

0 ~ 200 rpm

蠕動泵

2

拋光液流速

0 ~ 500 cc/min

拋光墊修整器分區

13

拋光墊修整器在線掃描速度

10sweeps/min

拋光墊修整器下壓力

3-20lbs

拋光墊修整器轉速

0-150rpm

CMP后片內非均勻性WIWNU

1sigma,去邊5mm

< 5%

CMP后片間非均勻性WTWNU

1sigma,去邊5mm

< 3%

全自動機械臂

2

后清洗系統

包含高壓DIW沖洗,雙面PVA刷洗,化學液清洗,高速甩干等功能。

冷卻系統

包含

EFEM

包含

 

 

 

n應用案例

 

CMP工藝 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金屬 CMP(W, Cu), 介質膜,STI

 

網站關鍵詞:臨時鍵合機  濕法系統  濕法臺  濕法臺  金屬減薄機  晶圓貼片機  晶圓貼膜機  金屬研磨機   微米劃痕儀  CMP拋光機   CMP拋光機  納米劃痕儀  晶圓厚度測量系統  晶圓厚度測量系統  晶圓厚度測量系統   晶圓厚度測量系統  拉曼顯微鏡  三維表面形貌儀  掃描超聲顯微鏡  化學機械拋光機  CMP后清洗機  CMP后清洗機   CMP后清洗機  棱鏡耦合儀  棱鏡耦合儀  超聲顯微鏡  

創建時間:2021-02-05 21:25

產品中心

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