4，6，8寸工業(yè)級CMP化學機械拋機

n產品簡介

韓國CTS公司的SAERO2K型CMP拋光機是一款全自動工業(yè)級CMP系統，4寸，6寸，8寸可選，用于半導體工廠及批量量產。

n產品主要特色

- CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，3區(qū)壓力分區(qū)控制，可得到良好的工業(yè)級拋光效果。

- 自動上下片，自動拋光，干進干出。

- 拋光墊修整器：擺臂式設計，拋光墊分10區(qū)修整控制，可調整修整器下壓力及每個區(qū)域的修整時間，可保證拋光墊高水平修整。

- 拋光墊修整器：具有在線修整與離線修整兩種模式。

- 工藝數據可實時監(jiān)測。

- 可存儲多個Recipe。

- 帶全自動手臂及自動雙面清洗設備模塊。

n核心技術參數

n應用案例

CMP工藝 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金屬 CMP(W, Cu), 介質膜，STI等

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